R&D Scientist / Electronics (Shizuoka)
Allergopharma
Shizuoka, Japan
5 日前

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メルクでのキャリアは 発見が続く旅といえます 当社では 57,000人がヘルスケア ライフサイエンス 高性能素材における次世代の発展を通じて 世界の生き方 働き方 楽しみ方を形作っています 350年以上にわたり 世界中でメルクは他の人々の生活を向上させる新しく活気のある方法を見つけるために情熱を持って好奇心を追求してきました

弊社のすべての行動は 企業を支える企業になることと デジタルリビングを発展させるという目的を実現させるためのものです 弊社は エレクトロニクス業界 自動車業界 化粧品業界にとって ハイテク素材 サービス 特殊化学品の信頼されるサプライヤーになるために全力を尽くしています 弊社は 勝利するための情熱を持ち お客様のことを常に考え 好奇心を絶やさず あきらめずに行動する個人によって構成されるグローバルなコラボレーション型組織を育てます 弊社は力を合わせて科学の新境地を開き お客様のためにさらなる可能性を追求いたします

English Follows

R&D Scientist IC Photo resist 担当 / R&D and Tech Service Japan Team

半導体製造のリソグラフィ工程において使用される フォトレジストの開発を行っています

開発にあたり 化学的バックグラウンドを持ち 研究開発スキルを有する候補を探しています

当該材料は 最新のロジック及びメモリデバイス製造に特化した感光性有機塗布膜材料であり 顧客の旺盛な開発推進力に基づき最も注目される開発分野のひとつといえます

主な業務は 新規材料の設計 特性評価ならびに最終的には顧客訪問を含む全般的な開発関連業務を想定します

現在のチームメンバーとともに 開発プロジェクトを推し進めてくれるメンバーを求めています

求める経験

化学系会社において 特に半導体リソグラフィ関連材料の開発作業に従事した経験を有する方が望ましい

有機化学 高分子化学などの学位 修士を有する方

英語力

求めるパーソナリティ

コミュニケーション能力(自分の考えを適切に相手に伝え 且つ 相手の考えを適切に受け入れる方)

チャレンジ精神旺盛な方

元気で明るい方

スポーツ経験者歓迎

Develop new i-line & KrF photo resist for global semiconductor customers

Skills

  • Platform design, formulation, evaluation & analysis
  • IP filing
  • Good English report
  • Good communication skill with global people in English
  • Good presentation skill in English
  • Behavior

  • Tough minded
  • Global sense
  • Recruiting Contact : Nozomu Yokota

    弊社の約束 ここには 新分野を開拓する機会が常にあります メルクは あなたが希望を実現するための権限を与え 多様な事業によって新しい展望を求めるためのさまざまなキャリアの転換機会を提供します あなたの能力を早期に信頼し あなたの希望と生活の優先事項に対応するキャリアマップを描くことを支援します メルクの一員になり あなたの好奇心を現実のものにしてください

    ご興味はございますか 詳細とご応募については https : / / jobs.vibrantm.com にアクセスしてください

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